反滲透膜的常見污染物及其去除方法
發(fā)布時間:2025-01-16 返回列表
反滲透膜的常見污染物及其去除方法
1、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現故障或加酸系統(tǒng)出現故障而導致給水pH升高,那么碳酸鈣就有可能沉積出來。應盡早發(fā)現碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生,以防止生長的晶體對膜表面產生損傷,如早期發(fā)現碳酸鈣垢,可以用降低給水pH至3.0~5.0之間運行1~2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢,則應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。
注:應確保任何清洗液的pH不要低于2.0,盃則可能會RO膜元件造成損害,特別是在溫度較高時更應注意,最高的pH不應高于11.0。查使用氨水來提高pH,使用硫酸或鹽酸來降低pH值。
2、硫酸鈣垢
三聚磷酸鈉溶液(參見上表中三聚磷酸鈉溶液)是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。
3、金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法,很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
4、硅垢
對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢,一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除。
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